每款产品都不希望产品表面出现凹凸不平，坑坑洼洼的面部，所以对于硅胶制品的表面光洁度固然重要，硅胶制品主模抛光方式主要是降低模具钢材表面的粗糙度，想要真正保证硅胶制品的表面光洁度还是需要从模具工艺上面着手，那么对于硅胶模具的表面光洁度工艺都有哪些处理方式呢？
　模具抛光可分为多种工艺方式，在硅胶模具中运用不同的处理方法， 其中以下表面处理方法为常见工艺！

　　电解抛光：

　　电解抛光是靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑。与化学抛光相比,可以消除阴极反应的影响,效果较好。电化学抛 光过程分为两步:

　　(1)宏观整平溶解产物向电解液中扩散,材料表面几何粗糙下降,Ra>1μm。

　　(2)微光平整阳极极化,表面光亮度提高,Ra<1μm。

　　机械抛光：

　　机械抛光是靠切削材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法,一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等,以手工操作 为主,特殊零件如回转体表面,可使用转台等辅助工具,表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具,在含有磨 料的研抛液中,紧压在工件被加工表面上,作高速旋转运动。利用该技术可以达到Ra0.008μm的表面粗糙度,是各种抛光方法中最高的。
　超声波抛光

　　超声波抛光是利用超声波作为动力，推动细小的磨粒以极高的速度冲击工件表面，迫使磨料对被加工表面进行加工，从而降低其表 面粗糙度的抛光方法。

　　流体抛光：

　　流体抛光是依靠高速流动的液体及其携带的磨粒冲刷工件表面达到抛光的目的。常用方法有:磨料喷射加工、液体喷射加工、流体 动力研磨等。流体动力研磨是由液压驱动,使携带磨粒的液体介质高速往复流过工件表面。介质主要采用在较低压力下流过性好的特殊 化合物并掺上磨料制成,磨料可采用碳化硅粉末。

　　磁研磨抛光：

　　磁研磨抛光是利用磁性磨料在磁场作用下形成磨料刷,对工件磨削加工。这种方法加工效率高,质量好,加工条件容易控制,工作条件 好。采用合适的磨料,表面粗糙度可以达到Ra0.1μm。